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旋转靶材
平面靶材

旋转铌靶 Rotating Nb target

产品用途:用于制作Nb2O5膜,主要用于光学玻璃、触摸屏之AR膜系,Low-E玻璃膜系。

产品参数:
密度(Density ):>8.1g/cm3(>95%)
纯度(Purity): > 99.9%

旋转氧化铌靶 Rotatable Nb2Ox target

产品用途:用于制作Nb2O5膜,主要用于光学玻璃、触摸屏之AR膜系,Low-E玻璃膜系,半导体,平面显示,触摸屏。

产品参数:
密度: >4.3g/cm3(>95%)
纯度: > 99.95%
总杂质含量≤ 500ppm

旋转氧化钛靶 Rotatable TiOx target

产品用途:用于制作TiO2膜,主要用于光学玻璃AR膜系,Low-E玻璃膜系。

产品参数:
密度: >4.0 g/cm3(>95%)
纯度: > 99.5%
总杂质含量≤ 5000ppm

旋转氧化锌铝靶 Rotating AZO target

产品用途:用于制作ZnO.Al2O3膜,主要用于TCO玻璃,热反射玻璃、Low-E玻璃膜系。

产品参数:
密度(Density ):>4.3g/cm3(>95%)
纯度(Purity): > 99.95%

旋转银靶 Rotatable Ag target

产品用途:主要用于Low-E玻璃膜系,薄膜太阳能电池电极膜系,TFT,半导体。

产品参数:
密度: > 10.5g/cm3
纯度: > 99.9%
总杂质含量≤ 1000ppm

旋转锆靶 Rotatable Zr target

产品用途:主要用于消费电子行业等。                                

产品参数:
密度: >6.49g/cm3(100%)
纯度: ≥ 99.5%
总杂质含量≤ 5000ppm

平面钛铝靶 Planar TiAl Alloy Target

产品用途:制作陶瓷钛铝合金膜,用于五金装饰镀硬膜,刀具/工具镀耐磨、耐高温硬膜。

产品参数:
密度: >3.5g/cm3(99.5%)
纯度: 99.7%
总杂质含量≤ 3000ppm
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平面氧化锌靶 Planar I-ZnO Target

产品用途:用于光伏TCO玻璃,建筑汽车玻璃膜系。

产品参数:
密度(Density ):>5.4g/cm3(>99%)
纯度(Purity):99.99%
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平面铜靶 Planar Cu Target

产品用途:制作纯铜膜,用于装饰玻璃镜膜,PCB板镀膜等,TFT, Low-E 镀膜,半导体电子。

产品参数:
密度: >8.9g/cm3(100%)
纯度: 99.99%
总杂质含量≤ 100ppm
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平面氧化钛靶 Planar TiOx target

产品用途:广泛用于光伏玻璃,光学玻璃,触摸屏玻璃,建筑汽车玻璃膜系。

产品参数:
密度: >4.13g/cm3(>97%)
纯度: > 99.9%
总杂质含量≤ 1000ppm
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平面银靶 Planar Ag target

产品用途:主要用于Low-E玻璃膜系,薄膜太阳能电池电极膜系,TFT,半导体

产品参数:
密度: >10.5g/cm3(100%)
纯度: 99.99%
总杂质含量≤ 100ppm
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银平面靶 Planar Ag target

产品用途:主要用于Low-E玻璃膜系,薄膜太阳能电池电极膜系,TFT,半导体

产品参数:
密度: >10.5g/cm3(100%)
纯度: 99.99%
总杂质含量≤ 100ppm
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