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氧化‍‍铟In2O3


化学式:In2O3                                             英文名:Indium Oxide

分子量:277.63400                                      密度:7.179g/cm(25℃)

蒸气压(mmHg,25℃):<0.01                 溶解性:不溶于水,溶于热的无机酸

制备工艺:中和沉淀+干燥+般烧纯度:≥99.99%

应用:大量应用于光电行业等高新技术领域和军事领域,特别适用于加工为钢锡氧化物(ITO)靶材,制造透明电极和透明热反射体材料,用于生产平面液晶显示器和除雾冰器。


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‍旋转氧化铌靶NbOx‍‍


化学式:Nb2Ox(4.3<x<4.9)                               电阻率(20℃):≤0.1Ω.cm

成型工艺:喷涂                                                       密度:≥4.3g/cm2(≥95%)

纯度:≥99.95%

应用:主要用于LOW-E镀膜玻璃,薄膜太阳能电池电极膜系,TFT-LCD,半导体电子

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客户要求定做



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旋转‍氧化钛靶TiOx


化学式:TiOx(1.7<x<1.9)                             电阻率(20℃):≤0.3Q.cm

成型工艺:喷涂                                                 密度:≥4.05g/cm3(≥95%)

纯度:≥99.6%

应用:用于制作TiO2膜,主要用于光学玻璃AR膜系,LOW-E镀膜玻璃

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客户要求定做


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