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‍‍旋转氧化锆‍靶ZrOx‍


化学式:Zr0x(1.5<x<1.9)                               电阻率(20℃):≤1Ω.cm成型工艺:喷涂

密度:≥5.45g/cm3                                             纯度:≥99.7%(含Hf)

应用:主要用于触摸屏,Low-E玻璃膜系,工具镀膜和装饰镀膜

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-8MM,直型、狗骨型,按客户要求定做



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‍旋转钛铝靶TiAI‍


化学式:TiAI                                                           成分:50:50at%

成型工艺:喷涂                                                       密度:≥3.7g/cm3

纯度:≥99.5%

应用:用于制作陶瓷钛铝合金膜,主要用于装饰镀和工具镀半导体电子

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客户要求定做



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旋转氧化锌铝靶AZO‍


化学式:TiOx(1.7<x<1.9)                             电阻率(20℃):≤0.3Q.cm

成型工艺:喷涂                                                 密度:≥4.05g/cm3(≥95%)

纯度:≥99.6%

应用:用于制作TiO2膜,主要用于光学玻璃AR膜系,LOW-E镀膜玻璃

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客户要求定做


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