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旋转铬靶Cr


化学式:Cr                                                                    成型工艺:喷涂

密度:≥6.47g/cm3                                                       纯度:≥99.5%

应用:用于制作Cr及CrNO膜,主要用于五金装饰的耐磨、耐腐蚀硬膜,LOW-E镀膜玻璃,半导体电子

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客户要求定做



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‍旋转硅靶Si‍


化学式:Si                                                                  电阻率(20℃):0.01-400Ω.cm

成型工艺:喷涂                                                           密度:≥2.26g/cm3(≥96%)

纯度:≥99.9%

应用:用于制作SiO2/Si3N4膜,主要用于光学玻璃,触摸屏之AR膜系,LOW-E镀膜玻璃,半导体电子,平面显示,触摸屏

最大加工尺寸:长度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客户要求定做


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旋转铝靶AI


化学式:Al                                                                   成型工艺:喷涂

密度:≥2.6g/cm(≥96%)                                          纯度:≥99.9%-99.99%(根据客户需求)

应用:主要用于表面装饰及功能镀膜,半导体电子,TFT-LC D,平面显示,薄膜太阳能行业

最大加工尺寸:长度L:4000MM厚度T:6-15MM,直型、狗骨型,按客户要求定做



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