名称：铟靶

                 规       格：旋转靶材、平面靶材                         纯度：≥99.99%      

                 成型工艺：浇筑                                 

                 应       用：半导体电子工业、平板显示工业、太阳能光伏工业、装饰与功能镀膜工业、超导与量子电子工业

           名称：铬靶

                 规       格：旋转靶材、平面靶材                         纯度：≥99.99%      

                 成型工艺：热等静压、热喷涂                                 

                 应       用：半导体电子工业、平板显示工业、储能与动力电池工业、太阳能光伏工业、精密光学工业、

                                  装饰与功能镀膜工业、节能与智能玻璃工业、超导与量子电子工业

           名称：镍靶

                 规       格：旋转靶材、平面靶材                         纯度：≥99.95%      

                 成型工艺：锻造轧制、冷喷涂                                 

                 应       用：半导体电子工业、平板显示工业、储能与动力电池工业、太阳能光伏工业、节能与智能玻璃工业、

                                  节能与智能玻璃工业

           名称：硅靶

                 规       格：旋转靶材、平面靶材                         纯度：≥99.99%      

                 成型工艺：热喷涂                         

                 应       用：半导体电子工业、平板显示工业、储能与动力电池工业、精密光学工业、装饰与功能镀膜工业

                                节能与智能玻璃工业